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產(chǎn)品快訊
光至科技GLE系列全新升級
材料來源:光至科技           錄入時(shí)間:2023/10/23 23:43:40

01 深度研發(fā) 只為更高性價(jià)比

針對五金深雕需求的變化,光至科技基于MOPA電控技術(shù)平臺開發(fā)出單脈寬高性價(jià)比的高功率GLE脈沖光纖激光器,功率高達(dá)200W。

GLE系列激光器采用全光纖系統(tǒng),結(jié)構(gòu)緊湊,易于安裝;參數(shù)簡單明了,易于調(diào)試;全新升級產(chǎn)品外觀,使用開模結(jié)構(gòu),體積小,防塵優(yōu)異,白色外殼,簡潔大方;新版降噪風(fēng)扇,智能運(yùn)行噪聲更。粯(biāo)配MOPA高速電控硬件,具備較強(qiáng)的信號抗干擾以及防靜電能力,同時(shí)具備高速的開關(guān)光響應(yīng)及功率切換響應(yīng)速度。

GLE高功率激光器采用特殊整形的脈沖波形,通過優(yōu)化光學(xué)方案,單脈沖能量1.5mJ,光束質(zhì)量M2<1.8,頻率范圍5~200kHz。

02 200W GLE  打深性能優(yōu)異

本次介紹的YFPN-200-GLE脈沖光纖激光器,平均功率200W,最大單脈沖能量可達(dá)1.5mJ,頻率范圍5-200kHz,自帶紅光,具有高性價(jià)比,調(diào)試簡單,性能穩(wěn)定等特點(diǎn)。工藝人員采用200W GLE分別在不銹鋼、碳鋼、黃銅、鋁材料上進(jìn)行測試。

★ 測試設(shè)備 ★

激光器:YFPN-200-GLE-LR03071A

設(shè)備:光纖打標(biāo)平臺

振鏡:SCANLAB(10mm)通光孔徑

場鏡:F160

軟件:金橙子2代 

★ 測試結(jié)果 ★

1、不銹鋼深雕

不銹鋼是金屬制品中使用最多的材料之一,在不銹鋼上雕刻一定深度的字符或者圖案的需求非常之多。經(jīng)測試,GLE 200W使用頻率190kHz,功率90%,速度2000mm/s,填充間距0.05mm,正離焦0.5mm,雕刻1mm深成品表面毛刺少,底紋細(xì)膩,深度均勻,去除效率40mm3/min。

2、鋁深雕

鋁材相對較軟,容易被去除,采用較大單脈沖能量去除率更高。使用頻率135kHz,功率90%,速度2000mm/s,填充間距0.04mm,雕刻1mm深成品表面毛刺少,底紋細(xì)膩,深度均勻,去除效率可達(dá)107mm3/min。

3、黃銅深雕

銅對1064nm紅外激光吸收率低,功率密度不夠易造成激光器高反報(bào)警甚至燒壞激光器內(nèi)部光路。GLE 200W光束質(zhì)量好,易聚焦小的光斑,能量密度達(dá)到銅材的損傷閾值使材料表面破環(huán),可以極大提高材料加工過程中的吸收率,不易造成高反現(xiàn)象。此外GLE 200W還配有高度隔離的隔離器,能完全過濾反射光保護(hù)激光器正常工作。

經(jīng)測試GLE  200W在頻率135kHz,功率90%,速度2000mm/s,填充間距0.04mm,深雕效率快,效果好,去除效率為43mm3/min。

4、碳鋼深雕

碳鋼具有高硬度的特點(diǎn),常規(guī)雕刻方法難以雕刻深度。激光高能量密度可以較短的時(shí)間將材料加熱至幾千攝氏度,直接將材料氣化,雕刻過程無耗材。激光深雕是碳鋼雕刻的理想加工方式。

經(jīng)測試GLE 200W頻率190kHz,功率90%,速度4000mm/s,填充間距0.04mm,雕刻1mm深成品表面幾乎無毛刺,底紋非常細(xì)膩,深度均勻,但是去除效率僅21mm3/min。

5、功率對深雕效率的影響

激光可以在鋼、鋁、銅等金屬進(jìn)行深度雕刻,如果不考慮效率,不論多少深度都是可以實(shí)現(xiàn)的。但是實(shí)際生產(chǎn)中,由于生產(chǎn)節(jié)拍的要求,往往對效率的要求都會比較高。功率越高效率越快,設(shè)備成本也會越高。根據(jù)需要,選擇合適的功率進(jìn)行深雕,讓設(shè)備具有最佳性價(jià)比。我們使用GLE不同功率激光器對不銹鋼、鋁、銅進(jìn)行了深雕效率對比,獲得了以下激光功率與深雕效率的關(guān)系圖。

GLE高功率激光器能很好的實(shí)現(xiàn)不銹鋼、碳鋼、鋁、銅材料的深度雕刻,其中鋁效率最快,碳鋼效率最慢,雕刻效率與激光功率和雕刻材料都有較大的關(guān)系。光至科技一直致力于光纖脈沖激光器研發(fā)與應(yīng)用,將竭誠為你提供產(chǎn)品與服務(wù),歡迎廣大客戶前來咨詢與研討先進(jìn)激光技術(shù)。

文章來源:光至科技

注:文章版權(quán)歸原作者所有,本文僅供交流學(xué)習(xí)之用,如涉及版權(quán)等問題,請您告知,我們將及時(shí)處理。


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