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激光直寫裝置
上海光機(jī)所研制出多路激光直寫裝置
材料來(lái)源:上海光機(jī)所           錄入時(shí)間:2010-12-7 11:43:35

11月,中科院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所周常河研究員課題組成功研制出多路激光直寫裝置。該裝置采用405nm的藍(lán)光激光光源,尼康0.9數(shù)值孔徑的透鏡,以及自動(dòng)聚焦系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了25路高精度并行激光直寫,刻寫光斑的線寬小于600nm。相比于傳統(tǒng)激光直寫系統(tǒng),該裝置在刻寫速度和效率方面有了很大的提高,幾十倍地縮短了激光直寫時(shí)間,可以快速制作大尺寸、高精度衍射光學(xué)元件。

激光束直寫技術(shù)是一種無(wú)需掩膜的光刻技術(shù),基本工作原理是由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束或樣品掃描,在光刻膠上或光敏材料上刻寫出掩膜圖形。傳統(tǒng)的激光直寫裝置由于受單路激光刻寫的限制,效率低,時(shí)間長(zhǎng),只能應(yīng)用于中、小尺寸光學(xué)器件的生產(chǎn)和制備。該裝置的成功研制,有可能為中國(guó)的半導(dǎo)體制造及大尺寸微納光學(xué)加工領(lǐng)域提供一種高性能、低成本的技術(shù)手段,同時(shí),也將推動(dòng)我國(guó)在納米光刻,微納光學(xué)制造等領(lǐng)域的進(jìn)步,對(duì)于研制我國(guó)大科學(xué)工程、裝置以及天文、航天、航空、印刷等行業(yè)所需要的大尺寸光學(xué)元件,起到積極的推動(dòng)作用。


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