Genki XP平臺(tái)進(jìn)一步推動(dòng)了高能量高功率皮秒激光器的工業(yè)化。該系統(tǒng)基于超穩(wěn)定的Genki種子激光器，能提供短于10ps的清潔脈沖，這是許多微加工應(yīng)用的最佳脈沖持續(xù)窗口。

為了滿足皮秒激光工作站日益增長(zhǎng)的需求，Genki XP經(jīng)過優(yōu)化，能在1064nm的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)條件下，提供高達(dá)100W的平均功率和300μJ的脈沖能量。激光器可以定制，工作在更低的重復(fù)頻率和更高的能量，或幾MHz跟隨高速自動(dòng)化過程。

Genki XP專為簡(jiǎn)單且具有成本效益的系統(tǒng)集成而設(shè)計(jì)，可以任意方向安裝，并提供完全的遠(yuǎn)程控制功能。

主要特性：10ps脈沖持續(xù)時(shí)間；突發(fā)模式；卓越的能量和指向穩(wěn)定性；可任意方向安裝；免維護(hù)，不需要對(duì)齊。

主要應(yīng)用領(lǐng)域包括材料加工、玻璃和藍(lán)寶石切割、等離子體生成及非線性光學(xué)等。

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