上海2016年2月15日電 /美通社/ -- 美國佛羅里達州的拉哥于2016年2月2日傳來消息,英國豪邁的電子光學品牌PIXELTEQ(pixelteq.com )推出了縮微成像濾光器,其縮微成像光學涂層結(jié)合了顯微光刻法專利技術和最先進的涂層專利技術,幫助創(chuàng)造了簡便且具有性價比的光學設備,可應用于生物醫(yī)學、安防、航空航天、精細農(nóng)業(yè)和機器視覺等領域。
PIXELTEQ公司的技術使多個電介質(zhì)、金屬和顏料的圖案結(jié)構(gòu)能在單一基質(zhì)上獲得濾波陣列涂層。到位的標準化流程為模仿玻璃和半導體晶片奠定基礎,且優(yōu)化了PIXELTEQ獲取客戶需求的流程、減少了產(chǎn)品投放市場的時間。該公司的高技術性能使其產(chǎn)品可以滿足各種市場需求,不管是高精準度、低容量的裝置還是高容量的消費者導向產(chǎn)品。
去年,PIXELTEQ公司花費了數(shù)百萬美元用于發(fā)展并升級了生產(chǎn)設施,其縮微成像濾光器的產(chǎn)出已翻兩倍。到目前為止,PIXELTEQ是全球市場上專注于縮微成像技術性能的唯一光電企業(yè)。
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