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“半導體激光器功率擴展面陣技術”項目通過技術鑒定
材料來源:中科院西安光機所          

5月9日,由西安光機所和西安炬光科技有限公司合作研發(fā)的“半導體激光器功率擴展面陣技術”項目,通過了由中科院西安分院組織的技術成果鑒定。

鑒定會由上海光機所范滇元院士主持,鑒定委員會聽取了項目工作組所做的工作報告、技術報告、查新報告以及鑒定測試報告和資料審查報告。鑒定委員會經(jīng)質(zhì)詢和討論,形成如下意見:

該項目成功設計和研發(fā)了一種半導體激光器功率擴展面陣技術,基于多疊陣光束非成像疊加、光斑控制、近場非線性控制、熱管理、光譜控制等技術,實現(xiàn)了24單元疊陣的組合面陣,連續(xù)輸出功率達27kW,功率密度大于668W/cm2,光譜寬度小于3.36nm。該技術適用于連續(xù)和準連續(xù)工作模式及不同中心波長,可擴展疊陣數(shù),對開發(fā)大功率半導體激光器面陣新產(chǎn)品有重要意義。該成果主要技術進步點如下:

1. 采用機械或光學或者機械與光學相結合的方法有效地控制了輸出光斑尺寸,提高了光斑均勻性;

2. 開發(fā)了大功率半導體激光器面陣的熱管理技術,采用獨特的熱管理結構設計,保證了面陣系統(tǒng)的溫度均勻性和穩(wěn)定性;

3. 研究了大功率半導體激光器面陣的光譜展寬機制,提出并開發(fā)了一種有效的面陣系統(tǒng)光譜控制工藝技術,實現(xiàn)了國際領先的高功率窄線寬激光輸出;

4. 進一步發(fā)展了提高半導體激光器陣列近場線性的工藝技術,實現(xiàn)了99%的產(chǎn)品的近場非線性低于1微米。

該成果技術復雜,難度高,設計先進,所研發(fā)的面陣在輸出功率、功率密度、光譜寬度等方面達到了國際先進水平。該成果已經(jīng)形成批量生產(chǎn)能力,在國內(nèi)多家單位得到應用。鑒定委員會一致同意該成果通過鑒定,同時建議進一步加強該成果的推廣應用。


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