248nm準(zhǔn)分子激光器技術(shù)由于輸出波長短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率,在工業(yè)、國防等方面,尤其是高功率激光系統(tǒng)包括248nm光刻技術(shù)、激光醫(yī)療、激光精細(xì)加工中具有極廣的應(yīng)用前景,也是ICF領(lǐng)域一個(gè)重要的技術(shù)選項(xiàng)。248nm薄膜元件是準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)中重要的薄膜元器件,其光學(xué)損耗和抗激光損傷性能對(duì)激光系統(tǒng)的效率起著重大或決定性的作用。 上海光機(jī)所研究了LaF3、MgF2、Al2O3和SiO2薄膜的低吸收、低損耗蒸發(fā)沉積工藝,在此基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)并制備了兩種248nm增透膜,增透膜的剩余反射率均小于0.1%。“天光”準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)將本所制備的增透膜元件與國際最重要,也代表最高國際水平的德國研制元件進(jìn)行了損傷閾值對(duì)比測(cè)試,測(cè)試波長248nm,脈寬24ns。結(jié)果顯示,對(duì)比德國5.5J/cm2的損傷閾值,本所制備的LaF3/MgF2增透膜平均在7.5J/cm2,最高達(dá)到11J/cm2;Al2O3/SiO2制備的增透膜的損傷閾值平均在6J/cm2。證明上海光機(jī)所研制的248nm增透膜損傷閾值結(jié)果達(dá)到國際領(lǐng)先水平。(中科院強(qiáng)激光材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室供稿)
圖1. 兩種材料組合制備的248nm增透膜的光譜曲線
圖2. 248nm增透膜的損傷閾值對(duì)比測(cè)試結(jié)果
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