248nm準(zhǔn)分子激光器技術(shù)由于輸出波長短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率，在工業(yè)、國防等方面，尤其是高功率激光系統(tǒng)包括248nm光刻技術(shù)、激光醫(yī)療、激光精細(xì)加工中具有極廣的應(yīng)用前景，也是ICF領(lǐng)域一個(gè)重要的技術(shù)選項(xiàng)。248nm薄膜元件是準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)中重要的薄膜元器件，其光學(xué)損耗和抗激光損傷性能對(duì)激光系統(tǒng)的效率起著重大或決定性的作用。

上海光機(jī)所研究了LaF₃、MgF₂、Al₂O₃和SiO₂薄膜的低吸收、低損耗蒸發(fā)沉積工藝，在此基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)并制備了兩種248nm增透膜，增透膜的剩余反射率均小于0.1%。“天光”準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)將本所制備的增透膜元件與國際最重要，也代表最高國際水平的德國研制元件進(jìn)行了損傷閾值對(duì)比測(cè)試，測(cè)試波長248nm，脈寬24ns。結(jié)果顯示，對(duì)比德國5.5J/cm²的損傷閾值，本所制備的LaF₃/MgF₂增透膜平均在7.5J/cm²，最高達(dá)到11J/cm²；Al₂O₃/SiO₂制備的增透膜的損傷閾值平均在6J/cm²。證明上海光機(jī)所研制的248nm增透膜損傷閾值結(jié)果達(dá)到國際領(lǐng)先水平。（中科院強(qiáng)激光材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室供稿）

 　圖1. 兩種材料組合制備的248nm增透膜的光譜曲線

　　圖2.  248nm增透膜的損傷閾值對(duì)比測(cè)試結(jié)果